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稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能要求，典型的膜层厚度均匀性要求在1%左右。与PVD不同，ALD镀膜无论对于纳米结构的微观层面或任意形状光学器件的宏观层面，都是理想的镀膜解决方案。 ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。将等离子体增强原子层沉积（PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。
不同镀膜技术的比较 (IAD：离子辅助沉积，IBS：离子束溅射，ALD：原子层沉积)蒸发沉积在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片定位和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与本部分所述的其他技术相比，蒸发沉积可以容纳更大的镀膜机尺寸，而且通常更经济有效。
对光学涂层有不同类型的要求。在某些情况下，例如在镜子中，期望的效果是产生具有高反射率的产品。通过选择具有相反折射率的材料并堆叠它们，可以增加成品中的反射率。对于廉价的反射镜，典型的光学镀膜材料是铝镀膜玻璃。由于银会反射更多的光，像银这样更昂贵的涂层将导致更昂贵的镜子的制造，从而具有更高的质量。精密表面镀膜精密表面镀膜
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